材料分析与表征
材料分析与表征

飞行时间二次离子质谱 TOF-SIMS

表面谱二维成像深度剖析
测试方式
表面谱 / 二维成像 / 深度剖析
仪器配置
按样品特性与目标尺度确认
服务报价
按测试与制样方案确认
检测周期
确认方案后安排排期
选择测试并填写需求

项目简介

项目简介

分析表面溅射产生的二次离子,研究表面分子碎片、元素分布及深度变化。

  • 表面谱
  • 二维成像
  • 深度剖析

分析表面溅射产生的二次离子,研究表面分子碎片、元素分布及深度变化。

  1. 明确目标与样品信息,选择适用测试方法及条件。
  2. 标记测试面并避免表面污染;注明目标离子、基底和真空兼容性。
  3. 按照确认的测试方案采集数据,记录条件与质量控制信息。
  4. 离子谱、分布图或深度曲线,附极性、束流和处理条件。

测试模块

测试模块

表面谱

分析表面溅射产生的二次离子,研究表面分子碎片、元素分布及深度变化。

条件确认
填写元素或碎片、质量范围、区域及膜厚。;注明深度标定、溅射限制及有机物敏感性。
样品准备
标记测试面并避免表面污染;注明目标离子、基底和真空兼容性。
交付范围
离子谱、分布图或深度曲线,附极性、束流和处理条件。

二维成像

分析表面溅射产生的二次离子,研究表面分子碎片、元素分布及深度变化。

条件确认
填写元素或碎片、质量范围、区域及膜厚。;注明深度标定、溅射限制及有机物敏感性。
样品准备
标记测试面并避免表面污染;注明目标离子、基底和真空兼容性。
交付范围
离子谱、分布图或深度曲线,附极性、束流和处理条件。

深度剖析

分析表面溅射产生的二次离子,研究表面分子碎片、元素分布及深度变化。

条件确认
填写元素或碎片、质量范围、区域及膜厚。;注明深度标定、溅射限制及有机物敏感性。
样品准备
标记测试面并避免表面污染;注明目标离子、基底和真空兼容性。
交付范围
离子谱、分布图或深度曲线,附极性、束流和处理条件。

样品要求

样品状态与前处理

标记测试面并避免表面污染;注明目标离子、基底和真空兼容性。

随样提供的信息

填写元素或碎片、质量范围、区域及膜厚。;注明深度标定、溅射限制及有机物敏感性。

每份样品设置唯一编号,注明成分、保存条件及已知危险性。确认接收条件与收样地址后再寄出。

结果交付

离子谱、分布图或深度曲线,附极性、束流和处理条件。

原始图像或数据
采集条件记录
约定的分析结果

图像数量、文件格式、分析深度及报告用途在委托时约定。示意图用于解释结果形式,不作为真实检测案例。

常见问题

Q1信号强度可直接换成含量吗?

二次离子产额具有显著基质效应,绝对定量通常需要匹配参比与校准。

Q2送样前需要提供什么信息?

填写元素或碎片、质量范围、区域及膜厚。;注明深度标定、溅射限制及有机物敏感性。

Q3费用、周期与交付内容怎样确定?

按测试模式、样品状态、制样工作量和分析内容确认报价与排期。请在委托时明确原始文件、图表及报告用途。

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